Жидкостное химическое травление — страница 13

  • Просмотров 15570
  • Скачиваний 787
  • Размер файла 173
    Кб

Адсорбция газов на поверхности Al является постоянной проблемой при использовании вязких травителей. Пузырьки способны замедлять травление - под ними образуются островки недотравленного металла, которые могут замыкать близко расположенные проводники. Рис. 17. Образование пузырьков во время жидкостного травления пленки железоникелевого сплава. Преимущест-венная адсорбция газообразных продуктов на боковой стенке

ограничивает боковое подтравливание. Неожиданным примене-нием адсорбции пузырь-ков явилось ее исполь-зование для сглаживания краев профиля при травлении железонике-левых пленок в HNO3 (рис. 17). Как только начинается процесс трав-ления, пузырьки окиси азота собираются вдоль боковой кромки. Адсор-бированный промежуточ-ный продукт NO2 действует как сильный окислитель при травлении металла, и травление в боковом направлении

ускоряется. Адсорбция газов на боковой стенке (рис. 17) использовалась также для снижения бокового подтравливания Al при его травлении в Н3РО4. Снижение давления в камере травления с 105 до 103 Па приводило к уменьшению подтравливания с 0.8 до 0.4 мкм. В результате адсорбции мелких пузырьков водорода на боковой стенке на ней образовывался эффективный диффузионный барьер. Для снижения бокового подтравливания Al с 1.0 до 0. 25 мкм было

предложено несколько травителей (табл. 9), содержащих добавки сахарозы (полиспирта) и ПАВ. Таблица 9. Травители для алюминия. Травитель Резист1) Применение 1. Na3PO4, Na2CO3, K3FeCN6 2. K3FeCN6 3. H3PO4, HCLO4, H2O, ПАВ 4. H3PO4, HNO3, ПАВ, сахароза 5. HCl 6. HCl, HNO3, Cu(NO3)2 7. Щелочь, изопропанол 8. ДНХ-проявитель ДХН, АК АК ДХН,АК АК АК Уменьшение подтравливания до 0.5 мкм Минимизация количества пузырьков Уменьшение подтравливания Подтравливание 0.25 мкм Все гальванически

осажденные металлы, включая Al; травление распылением электролита, устранение подтравливания Устранение неоднородности травления Al/Cu Универсальный травитель Al разрушается при достаточной концентрации проявителя 1) АК - циклокаучук с азидами, резисты типа KTFR; ДХН - новолак с хинондиазидами, резисты типа AZ-1350. Некачественно травление Al обусловлено несколькими факторами : 1) недопроявленный резист; 2) неравномерность толщины; 3)

напряжения в пленках поверх ступенек; 4) гальваническое ускорение травления из-за наличия преципитатов Al-Cu; 5) неравномерность толщины окисла; 6) нестабильность температуры (>±1оС). Эти факторы приводят к перетравливанию и закорачиванию. Хром является вторым после алюминия металлом, наиболее часто подвергающимся травлению. Он широко используется при изготовлении фотошаблонов. В качестве травителя используется сульфат