Химическая сборка поверхности твердых тел путем молекулярного наслаивания

  • Просмотров 2006
  • Скачиваний 18
  • Размер файла 28
    Кб

1 Министерство образования и науки Российской Федерации Федеральное агентство по образованию Государственное образовательное учреждение высшего профессионального образования “Северо-Кавказский государственный технический университет” Кафедра НТМЭТ Реферат на тему: «ХИМИЧЕСКАЯ СБОРКА ПОВЕРХНОСТИ ТВЕРДЫХ ТЕЛ МЕТОДОМ МОЛЕКУЛЯРНОГО НАСЛАИВАНИЯ.» Выполнил студент гр. Н041 Кущиков А.Г. Проверил Кичук С.Н. г. Ставрополь, 2008

ВВЕДЕНИЕ Получение принципиально новых характеристик материалов и изделий, особенно при создании искусственных структур, основанных на квантовых эффектах [1-6], невозможно в перспективе без создания новых прецизионных синтетических процессов. Последние в значительной степени связаны с использованием физико-химических приемов формирования поверхности заданного химического состава и строения с атомно-молекулярной

точностью. Одним из перспективных среди химических подходов в области получения низкоразмерных систем является метод молекулярного наслаивания (МН). ПРИНЦИПЫ И СИНТЕТИЧЕСКИЕ ВОЗМОЖНОСТИ МЕТОДА МОЛЕКУЛЯРНОГО НАСЛАИВАНИЯ Основная идея метода МН, используемого для прецезионного синтеза твердых тел регулярного строения, состоит в последовательном наращивании монослоев структурных единиц заданного химического состава на

поверхности твердофазной матрицы [7-12]. Таким образом, метод МН относится к так называемому матричному синтезу. Для осуществления указанного процесса необходимо соблюдение принципов, основными из которых являются следующие. 1. Синтез основывается на протекании необратимых в условиях эксперимента химических реакций между функциональными группами на поверхности твердого тела и молекулами подводимого извне реагента. При этом

используемые реагенты и продукты реакции не должны вступать в химические взаимодействия между собой. 2. Для постепенного наращивания слоя нового вещества необходимо проводить многократную и попеременную (в заданной последовательности) обработку последнего парами соответствующих соединений. При этом каждый вновь образующийся монослой новых функциональных групп должен содержать активные атомы или группы атомов, способные