Гальванотехника и ее применение в микроэлектронике — страница 8

числе для создания изолирующих областей при изготовлении ИМС. Электрохимическое травление основано на химических превращениях, которые происходят при электролизе. Для этого полупроводниковую пластину (анод) и металлических электрод (катод) помещают в электролит, через который пропускают электрический ток. Процесс является окислительно-восстановительной реакцией, состоящей из анодного окисления (растворения) и катодного

восстановления. Кинетика анодного растворения определяется концентрацией дырок, генерируемых на поверхности полупроводниковой пластины. Электрохимическое травление кремниевых пластин производят в растворах, содержащих плавиковую кислоту, при возрастающей плотности тока. При этом вначале происходит образование на поверхности пластины слоя оксида кремния, в состав которого входит фтористокремниевый комплекс SiF2,

окисляющийся в водных растворах с выделением водорода согласно реакции: NSi + 2nHF ® (SiF2)n + 2nH+ + 2ne- (SiF2)n + 2nH2O ®nSiO2 + 2nHF­ + nH2­ Затем происходит анодное растворение оксида кремния в плавиковой кислоте: SiO2 + 6HF ® H2SiF6 + 2H2O Такой процесс называют также электрополировкой. Для ускорения наименее медленных стадий процессов очистки с целью повышения качества очистки и производительности процессов применяют анодно-механическое травление. В

основу анодно-механического травления положено электрохимическое травление, сопровождаемое механическим воздействием. Электролит подается на освещенные мощной лампой (для генерации дырок) пластины, которые предварительно закрепляются на аноде и соприкасаются с вращающимся катодным диском, содержащим радиальные канавки. При этом скорость электрополировки достигает 400нм/с. Электролитическое травление применяют как для

очистки поверхности пластин, так и для их локальной обработки. Электрохимическое нанесение пленок В технологии микроэлектроники для получения пленочных покрытий с различными свойствами наряду с вакуумными применяют электрохимическое осаждение, анодное окисление. В основу метода положены реакции протекающие в водных растворах солей металлов в условиях приложенного электрического поля. В результате взаимодействия

продуктов реакции с подложкой образуется пленка. Электролитическое осаждение – осаждение пленок из водных растворов солей металлов (электролитов) под действием электрического тока, которое осуществляется в специальных электролитических ваннах, заполненных электролитом и содержащих два электрода: анод и катод. При электроосаждении меди из раствора медного купороса в качестве анода используется медная пластина. С